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795nm单偏振稳定垂直腔面发射激光器的研究

摘要:基于非对称氧化技术,引入氧化孔径横向光场损耗各向异性,使得TE/TM偏振光功率差进一步增加,TM偏振得到有效抑制,从而实现795nm垂直腔面发射激光器单偏振稳定输出。实验结果显示:当氧化孔径为7μm×5.5μm时,不同温度下偏振抑制比均在10dB以上,最高达到16.56dB;当氧化孔径为20μm×18μm时,偏振抑制比也可以达到15.96dB。最终,得到偏振抑制比为16dB、水平发散角为8.349°、垂直发散角为9.340°的单偏振稳定输出795nm垂直腔面发射激光器(VCSEL),为实现单偏振高光束质量VCSEL激光光源提供了实验基础。

关键词:
  • 垂直腔面发射激光器  
  • 单偏振  
  • 非对称氧化孔  
  • 湿氮氧化  
作者:
梁津; 关宝璐; 胡丕丽; 张峰; 董晨; 王菲; 王志鹏
单位:
北京工业大学光电子技术教育部重点实验室; 北京100124
刊名:
半导体光电

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期刊名称:半导体光电

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