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微型磁瓦表面线缺陷视觉检测方法研究

摘要:针对微型磁瓦图像对比度低、纹理背景复杂、亮度不均匀、缺陷区域小等特点,本文提出了一种微型磁瓦表面线缺陷视觉检测方法。首先,构造自适应静态掩膜,屏蔽微型磁瓦轮廓;其次,采用非线性各向异性扩散方程,抑制微型磁瓦表面纹理;进而,构造动态掩膜自下而上扫描磁瓦图像,提取线缺陷区域;最后,在开发的微型磁瓦视觉检测实验装置上,进行了大量的实验研究。实验结果表明,本文缺陷提取算法能够较准确提取出磁瓦表面图像的线缺陷,表面缺陷检测的准确率为94.6%。

关键词:
  • 微型磁瓦  
  • 掩膜  
  • 扩散方程  
  • 线缺陷  
作者:
张露滨; 李俊峰; 沈军民
单位:
浙江理工大学启新学院; 浙江杭州310018; 浙江理工大学自动化系; 浙江杭州310018; 浙江理工大学电子信息工程系; 浙江杭州310018
刊名:
光电子激光

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期刊名称:光电子激光

光电子.激光杂志紧跟学术前沿,紧贴读者,国内刊号为:12-1182/O4。坚持指导性与实用性相结合的原则,创办于1990年,杂志在全国同类期刊中发行数量名列前茅。