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基于YMS实现AOI Defect Map监控的设计

摘要:在现代液晶产品生产线上,基于YMS强大的运算能力、丰富的结果显示功能,通过对一定时间内单个样本AOI检测结果的重新计算,实现对Defect分布规律的监控。为了能更好的起到监控作用,丰富监控结果,终端显示从以下四个方面进行计算和输出:(1)按照坐标输出缺陷水平;(2)按缺陷大小和类型输出缺陷水平;(3)按来料Lot输出缺陷水平;(4)按基板输出缺陷水平。以上四个方面的数据监控能够及时发现异常来源,从而对产线的正常生产提供有力保障。此外,增加自动刷取和推送以及异常提示的设计,提高了监控的便利性。

关键词:
  • 良率管理系统  
  • 自动光学检测  
  • 自动监控  
作者:
张文富; 王旭; 蒋迁; 薛婕; 齐勤瑞; 张然
单位:
北京京东方显示技术有限公司; 北京100176
刊名:
科技创新与应用

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期刊名称:科技创新与应用

科技创新与应用杂志紧跟学术前沿,紧贴读者,国内刊号为:23-1581/G3。坚持指导性与实用性相结合的原则,创办于2011年,杂志在全国同类期刊中发行数量名列前茅。