摘要：U-MOSFET是在LDMOS和VDMOS基础上发展起来的一种功率半导体器件,具有大电流和低导通电阻、无少子存储效应、开关速度快、可工作于较高频率等优点,结合此类优点,利用Silvaco软件对U型槽深度对阻断特性和通态特性的影响进行仿真分析。通过观察仿真中沟槽深度的增加对器件阻断电压、导通电阻等的影响,综合探讨了在对U型槽底部氧化层厚度以及沟槽深度的调整中,考虑到对击穿电压和特征导通电阻的影响而需要做出的折衷。